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第449章 曝光场(第3页)

诸葛彪也说:“电源和地要多留几个引脚。数字电路和模拟电路要分开供电,减少干扰。”

钱兰又加了一行:“分离供电:模拟vdd数字vdd驱动vdd。”

三个人围着那张图纸,一条一条地过。

时钟输入,分频倍频,脉冲生成,反馈处理,数字pid,功率驱动,温补接口,测试接口,分离供电……

每一条都讨论得清清楚楚,每一条都写在笔记本上。

等到全部过完,已经快中午了。

吕辰直起腰,活动了一下僵硬的脖子:“差不多了。下午我把这个框图整理成正式文档,明天咱们去找宋教授汇报。”

诸葛彪点点头,把那些散乱的图纸收起来。

钱兰合上笔记本,笑道:“也难怪陈厂长他们要做这个,昨天我去看了gca-ocgs,手动进给。操作员得憋着气,一丝颤抖都不敢有,才能把线条对准。”

她比划了一下:“一块晶元放上去,曝光一百次,就是憋气一百次。他们是真的做到了,内炼一口气,外炼精骨皮。”

说完,大家都笑了起来。

诸葛彪道:“gca-ocgs是半接触式,多少还有电机驱动,已经算好的了,我们中试线那个原型机才真的是要了命。进给全造手动,那个摇柄就是个杠杆,对准了后就不敢松手,一松手就自动漂移,柳工就这样用了半年,谁都没告诉。还是一次陈志国来看了一眼,指出了杠杆原理,车了一个环形柄上去,才算解决,柳工激动得当场招婿。”

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他说得热闹,大家都笑了起来。

吕辰道:“下一代光刻机,要自动进给,要微米级精度,要靠咱们这个电机。”

他顿了顿,声音低下来:“如果咱们做不成,下一代光刻机就出不来。下一代光刻机出不来,两微米工艺就上不去。两微米工艺上不去,咱们的芯片就永远停在五微米。五微米的芯片,做不了昆仑工程!”

钱兰道:“所以咱们没得选,必须做成。哪怕良率只有百分之五,哪怕流十颗只能出一颗,也要做。”

诸葛彪总结道:“这说明什么,说明咱们有用。”

三个人都笑了。

正扯着闲,方教授走了进来,脸色不太好。

三人起身打招呼。

吕辰道:“方教授,您怎么来了?快请坐。”

方教授一脸疲惫,摆摆手道:“不坐了,我来找你,是有个事想让你看看。”

“方教授,您说。”

方教授叹了口气:“长光所那边在研gca-ocgs的下一代产品,我们工业监测实验室,接了个任务,需要想办法看到光刻机的曝光场景。”

吕辰三人对视一眼:“看到曝光场景?什么意思?”

方教授从兜里掏出一个小本本,翻开。

“光刻机曝光的时候,掩模版上的图案,要通过镜头投影到硅片上。这个过程,肉眼看不见。因为曝光时间很短,而且光刻胶对光敏感,不能拿眼睛直接看。”

他抬起头:“但设计师想知道,曝光的时候,图案到底是怎么落在硅片上的?有没有畸变?有没有衍射?有没有杂散光?这些问题,用理论计算能算个大概,但算不准。”

吕辰点点头:“所以你们想直接看?”

“对。”方教授说,“我们构建了一个思路,用一条纯净的玻璃丝,把曝光台的光信号引出来。然后用一个增强管,把光子、甚至是红外辐射,转换成电子。电子经过高压电场加,撞击微通道板,产生倍增效应。一个电子,变成成千上万个电子。电子再轰击荧光屏,重新变成光。这样,图像就被放大了几万倍。”

吕辰听着,脑子里飞快地转着。

玻璃丝传光,光电转换,电子倍增,荧光屏显示……

这不就是微光夜视仪吗?

方教授继续说:“验证机做出来了,但是突然遇到一个问题。我们模拟了gca-ocgs的曝光台,用那个增强管去看,只能看到雪花。曝光的时候,又是一片白光。等曝光结束,又变回雪花。”

他看着吕辰:“小吕,我苦思了很久,也不知道问题出在哪儿。十几万经费,就这么打水漂了。”

吕辰沉默了几秒。

然后他站起来:“方教授,您那验证机,能让我们看看吗?”

方教授也站起来:“可以,就在我们实验室。”

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